仕様

イオン源：

• 静電レンズと組み合わせたフィラメントベースのイオン源
• ビーム径：約1μm
• ビームエネルギー：50eV～2.0keV
• ビーム電流密度：最大8mA/cm2
• ファラデーカップにより1pA～2,000pAのビーム電流を測定

試料ステージ：

• ロードロック機構により10秒以内に試料の交換が可能
• ミリング角度：0°～±10°

試料の冷却：

• 液体窒素誘導冷却
• システム冷却温度：最低-175℃
• システム冷却時間：20分未満
• 試料冷却時間：5分未満
• 冷却継続時間：最大6時間

イメージング：

• SED（二次電子検出器）を使用したイメージング
• 視野3mm×3mm
• 試料を観察しながらミリング位置をピンポイントで設定

サイズ：

• 重量：230.5kg
• 寸法：幅991mm×高さ1,474mm×奥行き788mm

電源：

• 電圧：100V, 50/60Hz
• 消費電力：1,000W

用途

ナノミルModel1040は、高度なTEMイメージングや解析に必要とされる極薄かつ高品質の試料を作製するためのイオンミリング装置です。独自に開発されたイオン源は、50eV～という低イオンエネルギーを生成し、ビーム径も僅か1μmと小さいため、再付着(リデポジッション)を起こさずに、アモルファス層や注入層の除去を行えます。

ナノミルModel1040の主な用途は、集束イオンビーム（FIB）加工後の処理です。FIBはTEM試料を作製する上で極めて有効な手法ですが、表層のアモルファス化やガリウムイオンの注入がしばしば発生します。このようなダメージ層は、厚さ10nm～30nmに達することもあります。ナノミルModel1040は、このようなダメージ層の除去に最適な装置です。

特徴

小さく絞られた超低エネルギーイオンビーム：

ナノミルのイオン源は、フィラメントを使用したイオン化チャンバーと静電レンズを特徴としています。このイオン源は、超低エネルギーかつ細いビーム径を実現するために独自に開発されたものです。

不活性ガス（アルゴンガス）を利用し、さまざまな作動距離に対して50eVから2kVの範囲のイオンビームを出力します。実用的な電流密度を有しており、わずか20分程度のイオンミリングで、アモルファスのない理想的なサンプルの作製が可能です。イオンビームは直径2ミクロン程度に集束しているため、スパッタリングされた材料の再付着（リデポジッション）を最小限に抑えられます。

適用例

シリコンの透過電子顕微鏡（TEM）画像：

ニッケルベース超合金の透過電子顕微鏡（TEM）画像：

チタン合金の透過電子顕微鏡（TEM）画像：

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