プレスリリース
出展案内：nano tech 2012 / 第11回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議 (東京ビッグサイト)
第11回 国際ナノテクノロジー総合展に出展いたします。
「nano tech 2012 / 第11回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」は、最先端のモノづくりに欠かすことのできない基盤技術「ナノテクノロジー」に関する世界最大の展示会です。
弊社は、小間番号C-33にて、グラフェン・ナノダイアモンド・カーボンナノチューブなどのナノ材料、遠心噴霧アトマイザー・ジェットミル・ナノメーカーなどの粉体関連装置を展示いたします。出展内容は下記に記載いたしました。
皆様のご来場をお待ちしております。
《グラフェン》
今年はグラフェンを中心に展示いたします。グラフェン品目として、ナノ厚の鱗片状粉末（ナノプレートレット）やグラフェン水溶液に加え、単層グラフェン膜・酸化グラフェン・大口径グラフェン膜（転写前駆体）等の品ぞろえです。
《ナノダイヤモンド》
ナノダイヤモンド一次粒子分散体（ナノ炭素研究所製ナノアマンド）やナノダイヤモンド応用製品の潤滑油添加剤が新規アイテムとして加わりました。
《その他・ナノ材料》
カーボンナノチューブはもちろん、多孔質ナノ粒子のナノポーラスカーボン、導電性ナノ金属粉末、その他、炭化物・窒化物・ホウ化物・酸化物のナノ素材も幅広く取り揃えています。
《遠心噴霧法微粉末製造装置》
遠心噴霧アトマイザーは、高速回転するディスクに高温で溶けた金属・ガラス・化合物などを滴下し、不活性雰囲気ガス中のチャンバー内に飛散させ真球状の急冷凝固粉末を製造します。製造可能な粉末サイズは標準で5～350ミクロンの範囲で粒度幅の狭い粉末製造が可能です。
《粉末粒子微細化装置》
ナノグラインディングミル・ジェットミルは、安定した超高速同心円過流中で材料同士を衝突させ粉砕（磨砕）する乾式粉砕装置です。メディアを用いない粒子間衝突粉砕なのでコンタミが無く、サブミクロンからナノサイズにおよぶシャープな粒度分布を実現します。セラミックスはもとより、従来粉砕不可能とされていた金属をも粉砕出来る装置です。
《湿式分散装置》
ナノメーカーは、スラリー状粒子をキャビテーションの衝撃波で、ナノ粒子に微細化する装置です。素材が均一に処理され、メディアフリーでコンタミがなく、素材の表面・結晶構造を損なうことがありません。
nano tech 2012 / 第11回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議
日時 ： 2012年2月15日（水）～17日（金）
会場 ： 東京ビッグサイト東4・5・6ホール＆会議棟
主催 ： nano tech実行委員会
小間番号 ： C-33