プレスリリース

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フランスのCILAS社より、ナノ粉末粒度分布測定装置「Nano DS」が発売されました。 Nano DSには、他社の製品にはない次のような特徴があります。・検出器が可動式となっており、散乱光強度が最も強い角度での測定が可能 ・動的光散乱方式/静的光散乱方式を一台の装置に統合 ・0.3μm~10μmの広い測定範囲専用の解析ソフトウェアは、標準的な解析方法であるキュムラント・Co... 続きを見る
レーザーEXPO2013(パシフィコ横浜)に出展いたします。 Nd:YAG rod、励起用フラッシュランプ、励起チャンバー等、固体レーザー用光学部品を中心に展示致します。また、併設の宇宙・天文学EXPO向けに、高周波用RT/duroid基板、TMM基板も展示致します。 各社の出展アイテムは下記の通りです。皆様の御来場をお待ちしております。 ・励起用フラッシュランプ・アークランプ (App... 続きを見る
国際粉体工業展東京2012に出展いたします。 弊社は、小間番号K-02にて、遠心噴霧アトマイザー・乾式ジェットミル・湿式分散装置ナノメーカー・分級装置などの粉体関連装置を4社共同ブースにて展示いたします。出展内容は下記に記載いたしました。 皆様のご来場をお待ちしております。     《遠心噴霧法微粉末製造装置・遠心噴霧アトマイザー》 遠心噴霧アトマイ... 続きを見る
国際粉末冶金学会PM2012 Yokohama (パシフィコ横浜)に、弊社が代理店を務めるSCM Metal Products社(アメリカ)・Ecka Granules 社(ドイツ)・GGP Metalpowder 社(ドイツ)が出展いたします。 各社の出展アイテムは下記の通りです。皆様の御来場をお待ちしております。 SCM Metal Products / Ecka Granules ... 続きを見る
JASIS2012(分析展2012/科学機器展2012)に出展致します。 弊社では、シーラス社(フランス)の製品を主に展示致します。 皆様の御来場をお待ちしております。   ナノ粒子粒度分布測定装置「NanoDS」 シーラス社が開発しました最新のナノ粒子の粒度分布測定を行う装置です。既に一般的に使用されている動的光散乱式(DLS)に加え、静的光散乱式(SLS)を一台の装置に... 続きを見る
東京都産業技術研究センター主催の技術セミナーで、弊社取り扱いのナノダイヤモンド一次粒子分散体(ナノ炭素研究所製)及びグラフェン・ナノプレートレット(XG Sciences社製)の各メーカーのサイエンティストが講演を行います。 皆様のご参加をお待ち申し上げます。 《東京都立産業技術研究センター主催技術セミナー》 タイトル:環境・省エネルギーに役立つ粉体技術 日時: 2月9日(木) 場所... 続きを見る
第11回 国際ナノテクノロジー総合展に出展いたします。 「nano tech 2012 / 第11回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」は、最先端のモノづくりに欠かすことのできない基盤技術「ナノテクノロジー」に関する世界最大の展示会です。 弊社は、小間番号C-33にて、グラフェン・ナノダイアモンド・カーボンナノチューブなどのナノ材料、遠心噴霧アトマイザー・ジェットミル・ナノメーカーなど... 続きを見る
SiCを中心としたワイドギャップ半導体(GaN、AlN、ZnO, ダイヤモンド関連も含む)の結晶成長、基礎物性評価、プロセス技術、デバイス、機器応用等の分野に関する講演会を行います。弊社は、併設展示場にTanke Blue社(中国)SiC基板の展示致します。皆様のご来場をお待ちしております。 第20回SiC講演会 主催: 公益社団法人 応用物理学会 SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会 日... 続きを見る